814 | FONDA DE CURA DE LA PELL DE SEDA

Una base matificant que combina un efecte perfeccionador de la pell amb una cobertura impecable. Dissenyada per a suavitzar la textura de la pell, minimitzar imperfeccions i proporcionar un acabat vellutat i de llarga durada.

Textura

Garantitza una cobertura perfecta i uniforme durant tot el dia, oferint una comoditat excepcional.

Acabat

Cobertura alta amb un acabat mat i vellutat que realça la pell.

Ingredients actius

• Complex PURE SKIN: Una combinació d'extractes de llavor de cotó i de flor de lotus que afina la textura de la pell i minimitza les imperfeccions.

Ingredients

AQUA (AIGUA) • POLIISOBUTEN POLIINSATURAT • DIMÈTICONA • CETIL PEG/PPG-10/1 DIMÈTICONA • GLICERINA • FENIL TRIMÈTICONA • GLICOL BUTILÈNIC • PEG-4 • SILICA • POLIGLICERIL-3 DIISOSTEARAT • HDI/TRIMETHYLOL HEXYLLACTONE CROSSPOLYMER • DISTEARDIMONIUM HECTORITE • DIPHENYL DIMETHICONE/VINYL DIPHENYL DIMETHICONE/SILSESQUIOXANE CROSSPOLYMER • SODIUM CHLORIDE • COPOLÍMER DE DIMETICONA/VINIL DIMETICONA • FENOXIETANOL • PROPILENGLICOL • DEHIDROACETAT DE SÒDIM • PARFUM (FRAGRÀNCIA) • TRIETOXISILAN CAPRIL • FITAT DE SODI • HIDROXID D'ALUMINI • ACETAT DE TOCOFERIL • EXTRACT D'ESCORÇA D'ENANTIA CHLORANTHA • EXTRACT DE FLOR DE NELUMBO NUCIFERA • EXTRACT HIDROLITZAT DE LLAVOR DE COTÓ • CITRONEL·LOL • FRUCTOSA • GLUCOSA • INOSITOL • SUCROSA • TREHALOSA • BENZOAT DE SODI • LIMONEN • ÀCID OLEANÒLIC • CITRAT DE SODI • PENTAERITRIT TETRA-DI-T-BUTIL HIDROXIHIDROCINAMAT • (+/– POT CONTENIR): CI 77891 (DIOXID DE TITANI) • CI 77491 (ÒXIDS DE FER) • CI 77492 (ÒXIDS DE FER) • CI 77499 (ÒXIDS DE FER).

*Els ingredients poden variar lleugerament segons el lot subministrat. Consulteu l'embalatge del producte per obtenir informació actualitzada.

Com s'utilitza

Apliqueu-lo de manera uniforme a la cara i al coll per aconseguir un acabat mat perfecte.

Tractament personalitzat

Completa la teva rutina amb un tractament facial Maria Galland Paris per maximitzar els beneficis i potenciar la bellesa natural de la teva pell.

Teniu cap pregunta? No dubteu a posar-vos en contacte amb nosaltres.