814 | FOND DE TEINT VELVET SKINCARE
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Une base de maquillage matifiante qui combine un effet perfectionnant avec une couverture impeccable. Conçue pour lisser la texture de la peau, réduire les imperfections et fournir un fini velouté et durable.
Texture
Garantit une couverture parfaite et homogène tout au long de la journée, offrant un confort exceptionnel.
Fini
Haute couverture avec un fini mat et velouté qui met en valeur la peau.
Ingrédients Actifs
- Complexe PURE SKIN: Une combinaison d'extrait de graine de coton et de fleur de lotus qui lisse la texture de la peau et minimise les imperfections.
Liste des ingrédients
AQUA (EAU) • HYDROGENATED POLYISOBUTENE • DIMETHICONE • CETYL PEG/PPG-10/1 DIMETHICONE • GLYCERIN • PHENYL TRIMETHICONE • BUTYLENE GLYCOL • PEG-4 • SILICA • POLYGLYCERYL-3 DIISOSTEARATE • HDI/TRIMETHYLOL HEXYLLACTONE CROSSPOLYMER • DISTEARDIMONIUM HECTORITE • DIPHENYL DIMETHICONE/VINYL DIPHENYL DIMETHICONE/SILSESQUIOXANE CROSSPOLYMER • SODIUM CHLORIDE • DIMETHICONE/VINYL DIMETHICONE CROSSPOLYMER • PHENOXYETHANOL • PROPYLENE GLYCOL • SODIUM DEHYDROACETATE • PARFUM (FRAGRANCE) • TRIETHOXYCAPRYLYLSILANE • SODIUM PHYTATE • ALUMINUM HYDROXIDE • TOCOPHERYL ACETATE • ENANTIA CHLORANTHA BARK EXTRACT • NELUMBO NUCIFERA FLOWER EXTRACT • HYDROLYZED COTTONSEED EXTRACT • CITRONELLOL • FRUCTOSE • GLUCOSE • INOSITOL • SUCROSE • TREHALOSE • SODIUM BENZOATE • LIMONENE • OLEANOLIC ACID • SODIUM CITRATE • PENTAERYTHRITYL TETRA-DI-T-BUTYL HYDROXYHYDROCINNAMATE • (+/- PEUT CONTENIR): CI 77891 (DIOXYDE DE TITANE) • CI 77491 (OXIDES DE FER) • CI 77492 (OXIDES DE FER) • CI 77499 (OXIDES DE FER).
*Les ingrédients peuvent varier légèrement selon le lot livré. Consultez l'emballage du produit pour obtenir des informations à jour.
Méthode d'application
Appliquer uniformément sur le visage et le cou pour obtenir un fini mat parfait.
Traitement personnalisé
Complétez votre routine avec un traitement facial de Maria Galland Paris pour renforcer les bienfaits et mettre en valeur la beauté naturelle de votre peau.
Vous avez des questions? N'hésitez pas à nous contacter.
